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| 真空鍍膜技術(shù)在電子元器件中的應(yīng)用 |
| 發(fā)布時間：2024-10-29 瀏覽： 次 |
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真空鍍膜技術(shù)是真空應(yīng)用技術(shù)的一個重要分支，它已廣泛地應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開發(fā)，理化儀器、建筑機械、包裝、民用制品、表面科學(xué)以及科學(xué)研究等領(lǐng)域中。 真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學(xué)氣相沉積法。 由于各種電真空器件的工作原理是基于電場、磁場來控制電子在空間的運動借以達(dá)到放大、振蕩、顯示圖象等目的。 因此避免電子與氣體分子間的碰撞，保證電子在空間的運動規(guī)律，防止發(fā)射熱電子的陰極氧化中毒，把電子器件內(nèi)抽成不同電真空器件所要求的不同真空度、保證電子器件的正常工作，是絕對必要的。 目前電真空工業(yè)中所生產(chǎn)的電真空器件主要有各種電子管 ( 整流管、發(fā)射管、收信管、速調(diào)管、行波管、磁控管、光電管等 ) ;各種離子管 ( 泵弧整流管、引燃管、計數(shù)管、閘流管、噪音管、雷達(dá)電線開關(guān)等 ) ;各種電子束管 ( 示波管、攝象管、顯象管、 x 光管、變象管等 ) ;各種電光源管 ( 照明燈，光譜燈、儀器用燈等 ) 以及中子管、電子衍射儀、電子顯微鏡、 x 光顯微鏡，各種粒子加速器、質(zhì)譜儀、核輻射譜儀、氣體激光器以及利用真空中電子束進(jìn)行除氣、熔煉、區(qū)域提純、難熔金屬和介質(zhì)的熔化和鉆孔，開槽切割、放射性同位素的蒸發(fā)，難熔金屬的焊接等許多方面。 |
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